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99%以上的集成电路是硅集成电路。生产集成电路所需要的单晶硅 ，是在硅结晶生长始时 ，用低速提拉，生长过程均速提拉的法制成的。提拉速度的控制性能将直接影响到晶体的质量。当今 ，随着 IT产业的迅速发展 ，单晶硅生产市场需求剧，研制一种满足工艺要求，低成本的提拉速度控制系统具有重要的实际意义。在半导体材料中用量大和用途广的是半导体硅。当今 95 %以上的半导体器件是用硅材料的 一种实用的单晶炉提拉速度控制系统\前言半导体材料是半导体工业的基础材料 本文结合某单晶炉产品的研制 经折算后 (见下节式 ( 3) )。

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加热器4，加热器4的形状为常见的笼形；在籽晶提升机构里采用钢索卷筒提升钢丝绳。整个提升装置在一根中空的轴上旋转，该机构经过静平衡和动平衡测试，在整个运行范围内可实现无振动平稳的运行。旋转密封和提升进给密封均采用磁流体密封。提升腔、离合器腔、称重腔和晶升底板均由高强度铝而成。