提拉式单晶炉宿豫滤波柜维修/保养电气原理图是把一个电气元件的各部件以分的形式进行绘制，现场也有将同一电器上各个零部件均集中在一起，按照其实际位置画出的电路结构图。结构图的画法比较容易识别电器，便于和检修。但是，当线路比较复杂和使用的电器比较多时，线路便不容易看清楚。因为同一电器的各个部件在机械上虽然联在一起，但是电路上并不一定相互关联。电源频率：50HZ3，电源相数：3相3线制4，变压器容量：190KVA5，加热器大加热功率：160KW6，高加热温度：1600℃7。电源电压：380VAC±5%2提拉式单晶炉技术参数1加热器高加热电压：60V8。尤其是坩埚支持器下方的空间较大，导致坩埚支持器下方的混合气体不能及时排出，热能消耗量较大，另外，现有技术中，从氩气输入管向炉内充入氩气时，充气气压为1.3x103pa。在向单晶炉内不断充入氩气的同时，还必须用真空泵将混合气体排出炉外，在排气时，混合气体流经炉中的加热器，坩埚支持器等处，后经过炉下端的排气口排出。并与炉内生成的一氧化硅及杂质粉尘混合，由于单晶炉内的加热器和坩埚支持器等均由石墨制成，一氧化硅易腐蚀所述石墨制成的器件且杂质粉尘易吸附在这些器件上。

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不仅硅单晶生长顺利，而且品质较高，如果热场的温度分布不是很合理，生长硅单晶的过程中容易产生各种缺陷，影响质量，情况严重的出现变晶现象生长不出来单晶。因此在投资硅单晶生长企业的前期，一定要根据生长设备，配置出合理的热场，从而保生产出来的硅单晶的品质。在直拉硅单晶生长工艺中，一般采用温度梯度来描述热场的温度分布情况。设计与编辑在直拉法生长硅单晶的过程中其中在固液界面处的温度梯度为关键。硅单晶生长的成与否以及质量的高低是由热场的温度分布决定的。温度分布合适的热场数值模拟是在一个低成本的情况下所以数值是一种达到较高生产率和较好满足市场对晶体直径。不需要率因数补偿装置。3，计算机控制系统：采用PLC和上位工业平板电脑PC机，配备大屏幕触摸式HMI人机界面，高像素CCD测径ADC系统和具有知识产权的“全自动Cz法晶体生长SCADA系统”，可实现从抽真空—检漏—炉压控制—熔料—稳定—溶接—引晶—放肩—转肩—等径—收尾—停炉全过程自动控制。也是说，直流关电源的分类与DC/DC转换器的分类是基本相同的，DC/DC转换器的分类基本上是直 流关电源的分类。直流DC/DC转换器按输入与输出之间是否有电气隔离可以分为两类：一类是有隔离的称为隔离式DC/DC转换器，另一类是没有隔离的称为非隔离 式DC/DC转换器。