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99%以上的集成电路是硅集成电路 ，生产集成电路所需要的单晶硅 ，是在硅结晶生长始时 ，用提拉的法制成的。在单晶硅生产过程中 ，对晶体的提拉速度有十分严格的要求 ，从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。其中用量大和用途广泛的是半导体硅。当今 95%以上的半导体器件是用硅材料的 单晶炉提拉速度控制系统的设计与分析1　引　言半导体材料是半导体工业的基础材料 图 1示出了单晶炉提拉速度控制系统在单晶硅生产中的作用。提拉杆的运动是靠驱动电机通过减速器 线性精度大于± 2 %。

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用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力。科学技术的发展不断推动着半导体的发展。自动化和计算机等技术发展。通过对硅片进行光刻硅片是集成电路的重要材料使硅片（集成电路）这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度。这使得硅片已广泛应用于废电池片的再利用指以将再次生产的方式。直径偏差在单晶全长内仅 KAYEX100PV，KAYEX120PV，KEYEX150，Vision300型，投料量分别为30kg。的硅单晶体生长炉商之一。KAYEX的产品早在80年代初进入市场，已成为半导体行业使用多 JN）国外以美国KAYEX为代表，生产全自动硅单晶体生长炉。也叫切克劳斯基（J.Czochralski）方法。此法早在1917年由切克劳斯基建立的一种晶体生长方法上硅单晶的产量中70%～80%是用直拉法生产的。再由齿轮齿条机构带动的。在单晶炉中，要求提拉单晶硅的提拉杆不仅能以某一期望线速度V向上(下)运动，而且当提拉负载增大引起线速度为零时，提拉杆能保持其后位置而不上下滑动。对晶体的提拉速度有十分严格的要求，从某种程度上讲提拉速度的控制好坏将直接影响到晶体的质量。对单晶硅生产过程中的提拉速度控制系统进行研究有实际意义。对提拉控制系统提出的主要技术指标是，提拉速度在0.2～10.0mm/h范围之内实现无级可调，线性精度大于±2%。生产集成电路所需要的单晶硅，是在硅结晶生长始时。